| 对比维度 | X 射线（高能电子转靶） | 电子束(E-Beam) | 钴源（γ 射线） | 环氧乙烷（ETO） |
| 灭菌原理 | 高能电子轰击重金属靶产生轫致辐射，光子穿透破坏微生物 DNA / 酶系统，无化学残留 | 高能电子直接穿透，瞬间打断微生物遗传链，冷加工物理灭菌 | 放射性同位素衰变释放 γ 射线，持续辐射穿透灭菌，无化学残留 | 化学烷基化反应，破坏微生物蛋白质 / 核酸，需气体渗透与解析 |
| 穿透能力 | 突出，适配高密度、大体积、复杂结构产品，相较传统钴源工艺，剂量调控精准可控 | 中，适配扁平包装 / 低密度产品，厚件需双面辐照 | 强，适配高密度、大面积、复杂结构产品 | 中，可渗透纸塑包装，但难渗透金属/玻璃质产品，且残留风险高 |
| 处理效率 | 中（分钟级），剂量均匀性优 | 优异（秒级），但受穿透限制，厚件效率不高 | 低（小时级），加工效率随放射源的自然衰减而降低 | 较低（天级），含灭菌 + 解析，热敏 / 复杂件周期更长 |
| 放行规则 | 参数放行 | 参数放行 | 参数放行 | 1.结果放行，生物指示剂通过即通过 2.参数放行 |
| 适用性 | 难适用于有源类 | 难适用于有源类 | 难适用于有源类 | 禁用于食品，不适用于含水产品 |
| 污染 | 无 | 无 | 旧源退役有一定风险 | 有 |
